工作職責(zé)
1.光刻工藝條件開發(fā),保障光刻測試穩(wěn)定性;
2.對(duì)光刻測試的異??梢元?dú)立分析,保障測試結(jié)果的可靠性;
3.能夠獨(dú)立完成測試報(bào)告,并且對(duì)測試數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,得出結(jié)論;
4.進(jìn)行光刻工藝改善,對(duì)研發(fā)部門給出改善建議,推進(jìn)研發(fā)進(jìn)度;
5.參與光刻設(shè)備維護(hù),調(diào)試,按時(shí)移交滿足產(chǎn)能需求。
能力要求
1.掌握NIKON,CANON,ASML的Krf系列曝光設(shè)備操作方法;
2.掌握突覺顯影劑Lithius及以上型號(hào)的設(shè)備操作方法及程序編輯;
3.掌握日立HITCHAI系列CDSEM使用方法;
4.了解膜厚儀的測量,了解光刻膠切片設(shè)備;
5.具有良好的溝通能力,團(tuán)隊(duì)合作精神。
任職資格
1.具有2年以上光刻工藝經(jīng)驗(yàn)-FAB工作經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先;
2.本科及以上學(xué)歷,化學(xué)/微電子/光學(xué)等相關(guān)專業(yè)。
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